製造元：（株）オプセル

（特徴）
●レーザによるラスター走査方式
●レーザ波長は355,405,488,532,650㎜

●レーザ走査幅：10,60,80㎜が可能
●レーザスポット径：3,8,15μmなど可能

●1μmスポットのベクター走査機も供給可能

（主な用途）
●プリント基板直接描画装置として
●実験用の光学素子の直接描画装置として
●バイオ微小流路の直接描画装置として
◆　密着露光方式の技術的限界を超えるシステムへ

プリント基板やPDP/液晶パネルのパターンはますます微細化の方向に進んでいますが,現在行われている方式の多くはマスクフィルムを必要とする密着露光方式であり,精密パターン形成の技術的限界があるだけでなく,多くの人手と処理工程が必要とされています.このため,マスクレスで高精細,高速性,多品種対応などで優れているレーザー直接描画装置システムの開発が待たれています.当社では,マルチポリゴンの走査方式の光走査ユニットを用いて,プリント基板用のレーザー直接描画システムを製品化・販売しております.このマスクレスレーザー露光装置 はメムス(MEMS)用レーザー露光装置としても使用が可能です.