レーザ直描装置

JPU加盟企業では,テレセントリックｆθレンズを使用する レーザラスター方式の直接描画装置を製造販売しています.

各種のレーザ直描装置は以下の共通機能を持っています.
   ● レーザラスターｰ走査とテレセントリックfθレンズ方式
   ● レーザ波長はYAG355nm,377nm,405nmなどに対応
   ● 描画データは,BMP方式
   ● その他RIPｼｽﾃﾑなどは別途お打ち合わせ
製品に関心をもたれましたら是非お問い合せください.

外観	製品名/概要	製造元
	プリント基板用レーザ直描装置 当社では,マルチポリゴンの走査方式の光走査ユニットを用いて,プリント基板用のレーザー直接描画システムを製品化・販売しております.このマスクレスレーザー露光装置 はメムス(MEMS)用レーザー露光装置としても使用が可能です.	（株）オプセル
	マルチポリゴンレーザ直描装置  ポリゴン走査ﾕﾆｯﾄを複数台(マルチ)連結することで,φ10μm(FWHM)のビーム径を維持したままワイド露光にも対応	（株）オプセル
	テレセンfθレンズレーザ直描装置 ビーム径：φ3ミクン/Φ８μm/Φ15μm等(走査幅,レーザ波長に対応) 走査幅：10mm/60mm/80mm等	（株）オプセル
	テレセンfθレーザ円筒直描装置 ・微小な細線を高速で描画可能 ・シュリンクフィッタ方式による高精度ｆθレンズ締結技術 ・マルチポリゴン方式による走査幅のフレキシブル化	（株）オプセル
	精密LSU（レーザ走査ユニット） ・ テレセントリックfθレンズを使用 ・ レーザ走査幅は10～250mmなど ・ レーザスポット径は,5～30μmなど	（株）オプセル