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レーザ加工 製品一覧

レーザ加工用光学ユニット

※現在詳細カタログを準備中ですが、標準品のほか、特注品にも対応しております。 バタフライタイプ 反射膜へのレーザ入射角を変えることによる反射率変化を利用した透過光量調整ユニットです。 反射プレートと対称に配置された光軸補正プレートにより、光軸ずれがほとんど発生しません。 ハイパワーに対応。 偏光タイプ 偏光を利用した透過光量調整ユニットで、ほぼ０％～１００％まで調整可能です。 高出力対応偏光素子を使うことにより、ハイパワー対応も可能。 ウェッジフィルタータイプ 光学濃度が連続的に変化する反射膜を使用した透過光量調整ユニットです。

精密LSU（レーザ走査ユニット）

精密LSU（レーザ走査ユニット）仕様一覧表

テレセンfθレーザ円筒直描装置

製造元：（株）オプセル ・円筒面はφ0.5mm～φ100mmなどを選択可能 ・弊社独自の精密描画によりつなぎ目が目立ちません

テレセンfθレンズレーザ直描装置

製造元：（株）オプセル テレセンｆθレンズを利用したレーザ直描装置です.

マルチポリゴンレーザ直描装置

ポリゴン走査ﾕﾆｯﾄを複数台(マルチ)連結することで,φ10μm(FWHM)のビーム径を維持したままワイド露光にも対応.

プリント基板用レーザ直描装置

（特徴） ●レーザによるラスター走査方式 ●レーザ波長は355,405,488,532,650㎜ ●レーザ走査幅：10,60,80㎜が可能 ●レーザスポット径：3,8,15μmなど可能 ●1μmスポットのベクター走査機も供給可能